鍍鉻電解液的濃度通常分為高、中、低三類，其特性與用途如下：

 

       低濃度電解液:鉻酐含量約在150克/升以下，它允許采用高的電流密度(60～70A/d㎡)電流效率高(16～18%)，分散能力比其他鍍鉻電解液高，鉻層硬度高，獲得光亮鍍層的溫度和電流密度范圍狹窄，電解液的帶出損失少。適用于外形簡單的零件鍍硬鉻。

       高濃度電解液:鉻酐含量約350克/升，允許采用較低的電流密度(15～25A/d㎡)，電流效率低(10～12%)，分散能力低，深鍍能力好，工作范圍寬，電解液穩(wěn)定，鍍層較軟，裂紋網(wǎng)不顯著。因鍍液濃度高，帶出損失較大。這類電解液適合于各種形狀零件的裝飾性鍍鉻。

       中等濃度電解液:鉻酐含量約250克/升，其特點(diǎn)介于高低濃度之間。例如采用中等的電流密度(25～50A/d㎡)，電流效率(13～15%)，分散能力中等，工作范圍寬，電解液成分穩(wěn)定，鍍層性能良好。適用于簡單和復(fù)雜形狀零件的裝飾性鍍鉻。

 以上三種濃度的電解液，以中等濃度電解液應(yīng)用較普遍。