真空鍍膜技術(shù)的通用術(shù)語（上）
1.真空鍍膜vacuumcoating：在處于真空下的基片上制取膜層的一種辦法。
2.基片substrate：膜層承受體。
3.實(shí)驗(yàn)基片testingsubstrate：在鍍膜開端、鍍膜進(jìn)程中或鍍膜完畢后用作丈量和（或）實(shí)驗(yàn)的基片。
4.鍍膜資料coatingmaterial：用來制取膜層的原資料。
5.蒸騰資料evaporationmaterial：在真空蒸騰中用來蒸騰的鍍膜資料。
6.濺射資料sputteringmaterial：有真空濺射中用來濺射的鍍膜資料。
7.膜層資料(膜層原料)filmmaterial：組成膜層的資料。
8.蒸騰速率evaporationrate：在給定時(shí)刻距離內(nèi),蒸騰出來的資料量,除以該時(shí)刻距離
9.濺射速率sputteringrate：在給定時(shí)刻距離內(nèi),濺射出來的資料量,除以該時(shí)刻距離。
10.堆積速率depositionrate：在給定時(shí)刻距離內(nèi),堆積在基片上的資料量,除以該時(shí)刻距離和基片外表積。
11.鍍膜視點(diǎn)coatingangle：入射到基片上的粒子方向與被鍍外表法線之間的夾角。
12.真空蒸膜vacuumevaporationcoating：使鍍膜資料蒸騰的真空鍍膜進(jìn)程。
13.一起蒸騰simultaneousevaporation：用數(shù)個(gè)蒸騰器把各種蒸騰資料一起蒸鍍到基片上的真空蒸騰。
14.蒸騰場(chǎng)蒸騰evaporationfieldevaporation：由蒸騰場(chǎng)一起蒸騰的資料到基片上進(jìn)行蒸鍍的真空蒸騰(此技術(shù)應(yīng)用于大面積蒸騰以取得到抱負(fù)的膜厚散布)。
15.反響性真空蒸騰reactivevacuumevaporation：經(jīng)過與氣體反響取得抱負(fù)化學(xué)成分的膜層資料的真空蒸騰。
16.蒸騰器中的反響性真空蒸騰reactivevacuumevaporationinevaporator：與蒸騰器中各種蒸騰資料反響,而取得抱負(fù)化學(xué)成分膜層資料的真空蒸騰。
17.直接加熱的蒸騰directheatingevaporation：蒸騰資料蒸騰所有必要的熱量是對(duì)蒸騰資料(在坩堝中或不必坩堝)自身加熱的蒸騰。
18.感應(yīng)加熱蒸騰inducedheatingevaporation：蒸騰資料經(jīng)過感應(yīng)渦流加熱的蒸騰。
19.電子束蒸騰electronbeamevaporation：經(jīng)過電子炮擊使蒸騰資料加熱的蒸騰。
文章來自東莞愛加真空科技有限公司
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